万科·润园位于湖北省武汉市，2007年设计，2010年竣工，建筑面积约14.5万平方米。

本项目所在地块原为中国普天电子设备厂，厂区为50年代建筑，风格统一，项目整个布局形成南低北高、南密北疏的空间形态。立面造型撷取原厂区老建筑立面元素和材料色彩，用新的语法重组，给人以深厚的历史延续感和崭新的空间体验。户型设计户与户之间错动组合，使得每户或宽或高都有各自的空间个性，并且都设自家独立的小院或天台。与场所相似而又崭新的空间形态、道路机理、环境特征以及细部元素营造了一个既延续城市记忆又有时代特征的极具个性高品质小区。在特殊的地块上，以现代的形式，实现深宅大院的院落居住精神，诠释着“一城一宅、一家一院”的尊贵内涵。

本项目荣获2009年中国勘察设计协会优秀工程勘察设计行业奖（住宅与住宅小区）二等奖，2008年度湖北省优秀工程一等奖。